近日，被誉为“浸润光刻之父”的林本坚，在中国台湾清华大学半导体研究学院担任院长，并曾任台积电研发副总经理，他在一次访谈中表达了对中国大陆半导体行业发展的独到见解。他认为，中国大陆在半导体领域具备重新定义行业的潜力，并可能创造出如同DeepSeek般具有突破性意义的成果。
林本坚提到，中国大陆无需局限于7nm和5nm等尖端制程技术的追赶，而应通过探索新材料和新型架构，实现制程功能的跨越式提升。他指出，即便采用7nm制程，通过创新和优化，也能达到甚至超越5nm制程的性能水平。这种思路与DeepSeek的发展路径不谋而合，即通过非传统方式，实现更高效、更快速的进步。
他进一步阐述道：“外界对中国大陆的半导体投资和研发施加的压力，可能会激发出其潜在的创新能力。就像DeepSeek一样，不遵循传统路径，却取得了令人瞩目的成就。或许，通过新材料和新型架构的应用，中国大陆能够实现原本需要更先进制程才能达到的目标。”
林本坚还强调，如果中国大陆在半导体领域的努力和投入持续加强，未来完全有可能诞生出半导体行业的“DeepSeek”。这种突破性的创新，可能会使台积电在2nm、3nm等先进制程上的努力变得黯然失色。他担忧地表示：“这将给台积电带来巨大挑战，因为中国大陆不仅拥有庞大的市场，而且能够以更低的价格提供高性能的半导体产品。”
林本坚的言论不仅揭示了他对中国大陆半导体行业发展的关注，也表达了对未来半导体行业竞争格局变化的深刻洞察。他提醒业界，面对中国大陆的创新潜力，必须保持警惕，并持续加大自身的研发投入，以应对可能出现的挑战。
