苹果在追求iPhone真全面屏设计的道路上，面临着一个巨大的挑战：如何在不牺牲Face ID功能的前提下，实现屏下技术。Face ID依赖于复杂的深感摄像头系统，包括红外摄像头和点阵投影器，这些组件在现有技术下难以完全隐藏于屏幕之下，迫使苹果采用了所谓的“药丸屏”作为权宜之计。
然而，最新的消息显示，苹果可能已经找到了解决这一难题的钥匙。据媒体报道，苹果获得了一项屏下Face ID的专利，这项专利有望彻底改变iPhone的屏幕设计。专利的核心在于解决红外光在屏幕下的透射率问题，因为红外光虽然能穿透显示屏，但透射效率低下，会严重影响人脸识别的速度和准确性。
为了克服这一障碍，苹果的专利提出了一种创新的解决方案：移除部分子像素。在常规的显示器中，每个像素由红、绿、蓝三个子像素组成，共同决定屏幕上的颜色。苹果的方案是，移除相邻的相同颜色子像素，为红外光开辟通道，使其能够顺利穿过OLED面板。由于这些被移除的子像素可以通过相邻子像素的颜色混合来弥补，因此用户几乎察觉不到任何差异。
这一技术的实现，意味着iPhone将能够摆脱现有的药丸屏设计，迈向真正的全面屏时代。据称，这一方案最快将在2026年的iPhone 18系列上得到应用。届时，iPhone 18系列将采用单挖孔屏设计，为用户提供更加沉浸式的视觉体验。
这一变革不仅将提升iPhone的外观设计，更将推动智能手机行业的进一步发展。随着屏下技术的不断成熟，未来或将有更多智能手机采用类似的设计，为用户带来更加出色的使用体验。
