在半导体行业的瞩目之下，全球半导体年度盛会SEMICON China 2025圆满闭幕，此次盛会汇聚了超过1400家产业链上下游企业，吸引了逾十万行业精英共聚一堂。东方晶源微电子科技（北京）有限公司，作为国内良率提升解决方案的佼佼者，携其全系列产品及最新研发成果惊艳亮相，彰显了中国智造的强大实力。
展会期间，东方晶源的技术团队成为焦点，他们由资深工程师组成，连续三天举办了八场技术讲座，内容覆盖电子束量测检测设备、计算光刻软件等核心产品，深入剖析了半导体行业的发展趋势和技术创新。通过硬件与软件的完美协同，东方晶源展示了从设备精度到数据算法的完整技术链条，充分展现了其产品竞争力。
技术团队的演讲内容详实且富有深度，通过大量数据和典型案例，生动诠释了东方晶源在国产良率管理领域的技术突破和应用实践。这不仅让全球行业精英对中国在该领域的国产化替代水平有了深入了解，也极大地促进了产业链上下游的知识共享和生态建设。现场互动频繁，气氛热烈。
东方晶源在过去一年中，聚焦核心技术难题，持续投入研发，取得了一系列令人瞩目的进展。展会现场，其电子束量测检测设备、PanGen®计算光刻平台、YieldBook良率管理平台等迭代新品吸引了众多参观者的目光。其中，DR-SEM r655、PanGen DMC®、PME工艺优化系统等关键成果更是成为展会亮点，吸引了众多上下游合作伙伴前来交流探讨。
在电子束量测检测领域，东方晶源继成功推出DR-SEM r600后，经过两年迭代，最新一代DR-SEM r655在性能上实现了质的飞跃。它搭载了新型高性能电子枪和光学检测模组，采用升级版传片系统和智能算法，突破了多项技术难题，满足了国内先进制程产线的应用需求。同时，东方晶源自主研发的EOS成功应用于旗下多款量测检测设备，为产业链自主可控提供了关键技术支撑。
东方晶源自2014年创立之初，便开创性地提出了基于CPU+GPU混合算力架构的全芯片反向光刻技术（ILT）解决方案。经过十一年的持续迭代，其PanGen®良率综合优化平台已广泛应用于国内主流逻辑和存储芯片制造商的工艺研发和量产中。此次展会，东方晶源展示了围绕软件生态的全系列工具，包括PanOVL套刻标记优化工具、PanGen DMC®设计可制造性检查工具等。
PME作为东方晶源践行HPO理念的又一力作，已在客户现场完成全面部署，并正式步入产品验证与评估阶段。它深度融入了东方晶源的“设备-数据-算法”三位一体、软硬协同的良率提升解决方案，成为突破半导体先进制程良率瓶颈的重要工具。同时，国内某先进节点FAB的实测结果表明，PanGen DMC®在全芯片尺度预测指标上已达到国际先进水平。
东方晶源始终致力于为国内FAB客户提供全面、高效的技术支持，以技术创新驱动产业升级。此次展会所展示的一系列突破性成果，不仅体现了其现有的技术优势，更彰显了其持续创新的研发实力。从电子束量测检测到计算光刻软件，从点工具到系统方案，东方晶源已构建起完整的良率提升技术生态，为中国半导体高端设备产业的自主可控发展注入了强劲动力。
