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华为“韬(τ)定律”引领半导体新方向,详解芯片技术革新与未来展望

2026-05-25来源:快讯编辑:瑞雪

在上海举办的一场行业盛会上,华为半导体业务部总裁何庭波发表了题为《半导体新路径探索与实践》的主旨演讲,正式提出“韬(τ)定律”。这是中国在全球半导体领域首次提出指导产业发展的新原则。基于这一理论,华为在过去六年成功设计并量产了381款芯片,并计划在今年秋季发布采用逻辑折叠技术的全新麒麟手机芯片,大幅提升性能。

随后,华为发布了一篇署名为何庭波的论文,详细阐述了这一新定律及其应用。论文指出,传统的摩尔定律已难以适应现代半导体技术的发展需求,纯粹依靠缩小晶体管尺寸带来的收益逐渐减少,而尖端芯片的设计成本却不断攀升。为此,华为提出了以时间常数τ为核心的缩放原则,旨在通过系统性地降低各层级的特征时间常数,实现性能的全面提升。

论文介绍了τ缩放原则的具体内容。该原则将时间常数τ作为衡量技术进步的主要指标,涵盖从晶体管开关到数据中心工作负载的十二个数量级。通过优化每一层的τ值,包括晶体管、电路、芯片和系统,可以实现端到端的协同优化。论文还展示了两个量产案例:在移动SoC领域,逻辑折叠技术使晶体管密度提升55%,能效提升41%;在人工智能系统方面,协同设计堆栈预计到2035年将硬件集成度提高100倍以上。

几何缩放时代面临诸多挑战。自20世纪60年代中期以来,半导体行业一直以缩小晶体管尺寸为主要发展方向。然而,随着技术进入7纳米节点之后,几何缩放带来的收益逐渐减少,光刻工具接近物理极限,设计成本大幅上升。这些问题迫使行业重新思考发展方向,不再单纯追求晶体管尺寸的缩小,而是寻找新的优化目标。

时间常数τ成为新的优化焦点。论文指出,摩尔定律的本质是通过缩短时间来提升性能,而非单纯改变几何形状。因此,将时间本身作为主要衡量标准更为合理。通过在每一层级定义并降低特征时间常数τ,可以实现系统性性能提升。几何缩放成为降低τ的技术之一,而非唯一手段。这一新原则被称为τ标度律,被视为几何摩尔标度律的继任者。

逻辑折叠技术是τ缩放原则在移动SoC领域的首次大规模应用。该技术通过将数字、模拟和存储电路划分到垂直堆叠的有源层中,缩短信号路径,降低寄生电阻和电容,从而提升性能和能效。在麒麟2026芯片上,逻辑折叠技术使晶体管密度从155 MTr/mm²提升至238 MTr/mm²,性能核心能效提升41%,最大时钟频率提升近13%。

在人工智能数据中心领域,τ扩展原则同样得到应用。通过统一总线架构、近封装光学引擎Hi-ONE和3D折叠技术,人工智能系统的性能得到显著提升。统一总线架构将端到端远程访问延迟从几十微秒降至约100纳秒,系统τ降低约500倍。Hi-ONE光学引擎提供高带宽光互连,解决电控SerDes的性能瓶颈。3D折叠技术则通过将边缘资源转移到表面,解决2.5D扩展的扇出困境,实现计算能力与内存带宽的同步扩展。

逻辑与内存的融合成为新的发展趋势。传统上,处理器和内存通过标准化总线解耦,使两个行业能够独立发展。然而,人工智能时代对数据传输的需求激增,推动逻辑和内存走向紧密集成。HBM、混合键合和3D堆叠SRAM等技术体现了这一趋势。τ扩展原则通过揭示分离的跨层成本,促使行业重新思考逻辑与内存的关系,寻找经济可行的融合方案。

尽管τ扩展原则为半导体行业发展提供了新的方向,但仍面临诸多挑战。工具链和方法论需要更新,以支持全尺寸逻辑折叠设计。晶圆间工艺偏差、垂直互连开销和能耗问题也需要解决。论文呼吁行业各方共同合作,开发τ原生工具链,建立新的性能基准测试,推动τ扩展原则的广泛应用。通过系统性地降低各层级的特征时间常数,半导体行业有望迎来新的发展机遇。

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