比利时校际微电子研究中心（imec）近日宣布，其长期技术合作伙伴ASML已向其交付了一台高数值孔径极紫外光（High NA EUV）光刻系统——EXE:5200。这台设备将被部署在imec位于比利时鲁汶的总部，为亚2纳米（sub-2nm）制程的中试线项目NanoIC提供核心技术支持。
据介绍，EXE:5200是当前半导体制造领域最先进的光刻设备之一，其高数值孔径设计可显著提升光刻分辨率，为开发亚2纳米制程工艺奠定基础。imec与ASML的合作历史悠久，此前双方已在荷兰费尔德霍芬的ASML总部联合建立了High NA EUV光刻实验室，与全球半导体产业链伙伴共同推进下一代图案化技术的研发。
此次新设备的引入将进一步拓展imec的研发能力。机构方面表示，EXE:5200的加入不仅为实验室提供了更高的工艺自由度，还使其具备接近量产级别的技术验证条件，有助于加速亚2纳米制程从实验室到量产的转化进程。
根据规划，imec将对EXE:5200系统进行全面认证，预计认证工作将于2026年第四季度完成。这一时间节点与全球半导体行业向更先进制程节点迈进的步伐保持同步，或将为行业技术迭代提供重要参考。
